二氧化硅分散体均质高速分散机

碱性二氧化硅分散体高剪切分散机，二氧化硅分散体均质高速分散机，节能保温材料均质分散机，实验室微型纳米分散机是由胶体磨和分散机组合而成的。将三级高剪切均质乳化机进行改装，三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。物料既可以有效分散，又可以防止团聚。 Sili1020B是一款碱性的纳米二氧化硅分散体，具有很好的均匀度和稳定性，主要用于碱性体系中的水性涂料增稠触变、防流挂、颜填料抗沉降以及提高涂层的耐刮擦性能和硬度，提升水性涂料的耐盐雾和防水性能，陶瓷釉面烧结，尿不湿吸水材料防结块、节能保温材料等领域。 应用与特性 应用领域 l 水性涂料增稠触变 l 涂料颜填料防沉降 l 水性涂料耐刮擦 l 水性涂料防流挂 l 涂料耐盐雾和防水性 l 节能保温材料 l 陶瓷釉面烧结 l 吸水材料防结块 特性 l pH为碱性的分散液 l 纳米级的原生颗粒 l 出众的流变特性 l 极低的助剂添加量 外观 Sili1020B是一种半透明状白色液体。 碱性二氧化硅分散体高剪切分散机的结构特点： 第1级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽，定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离，在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。这样的设计可以保障物料初始颗粒较大时，可以顺畅进入研磨分散机腔体，通过高速旋转的精细度递升磨头，最终得到微纳米级的物料颗粒。 碱性二氧化硅分散体高剪切分散机，二氧化硅分散体均质高速分散机，节能保温材料均质分散机，实验室微型纳米分散机 　　粉碎室设有三道磨碎区，一级为粗磨碎区，二级为细磨碎区，三层为超微磨碎区，通过调整定、转子的间隙，能有效地达到所需的超微粉碎效果（也可循环加工）。 混合区：首先将物料通过混合搅拌装置进行高速混合，在混合过程中用螺旋混合浆叶使物料在高速运转中的到充分混合均质后送料给下道工艺； 剪切区：物料进入剪切区后，由于上道工序只把物料进行混合，没有把物料进行大颗粒破碎，这个问题由高剪切机来完成，该剪切区由三层数百条刀槽组成，将大的粘团结块等易碎颗粒进行剪切破碎。 研磨区：研磨区是由凹凸研磨分散机组成，转定子切有许多中齿及细齿组成，将已剪切的小颗粒进行深化研磨，研磨时可调距离为0.01~3mm； 1、有较强的混合、粉碎、研磨、输送功能； 2、可使用较硬的各类易碎颗粒； 3、 可同过调节定转子间隙进而调节循环研磨所需时间； 4、 定、转子间歇可以调节，调节距离为0.01~3mm，可降低启动负荷，从而减少能耗 5、 转、定子材料可选用2cr13 9cr18 2205进行氮化处理货渗碳化钨处理。 三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款立式研磨分散机比普通的研磨分散机的速度达到3倍以上,的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。 第2级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子、转子和批次式机器的工作头设计的不同主要在对输送性的要求方面，特别要引起注意的是：在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列，还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例，依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下，机器的构造是和具体应用相匹配的，因而它对制造出最终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。 研磨分散机的性能特点： 1.线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力非常强烈，通常所说的超细湿磨 2.定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。 3.定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离 4.在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。 5.高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。 研磨分散机的设计特点： IKN研磨分散机由胶体磨和分散机两部分组成，兼具研磨和分散功能，但并不是将两种功能简单的叠加，不仅仅是1+1=2这样简单；研磨分散机必须经过合理和精密设计，特别是其中间隙、流量、尺寸和密封的处理，都经过严格的计算和精心组合；实际的效果变成了1+1＞2，研磨细度超过单一的胶体磨，分散效果又强于单一的分散机。 碱性二氧化硅分散体高剪切分散机，二氧化硅分散体均质高速分散机，节能保温材料均质分散机，实验室微型纳米分散机